光刻系統 公司

  • 报告编号: 4514
  • 发布日期: Jun 30, 2025
  • 报告格式: PDF, PPT

主導光刻系統領域的公司

    隨著老牌關鍵廠商、IT巨頭以及新進業者紛紛投資先進技術,光刻系統的競爭格局正快速演變。市場主要廠商專注於開發符合嚴格監管規範和消費者需求的產品。這些主要參與者正在採取多種策略,例如併購、合資、合作以及推出新產品,以增強其產品基礎並鞏固其市場地位。

    全球前十五大微影系統市場製造商

    公司名稱

    原產國

    約。市佔率 (%)

    ASML Holding N.V.

    荷蘭(歐洲)

    65%

    尼康公司

    日本

    10%

    佳能公司

    日本

    8%

    Ultratech(Veeco 旗下公司)

    美國

    4%

    NuFlare Technology Inc.

    日本

    2%

    SÜSS MicroTec SE

    德國(歐洲)

    xx%

    EV 集團 (EVG)

    奧地利(歐洲)

    xx%

    日本電子株式會社

    日本

    xx%

    SMEE(上海微電子裝備有限公司)

    中國(供參考)

    xx%

    應用材料公司

    美國

    xx%

    Vistec Electron Beam GmbH

    德國(歐洲)

    xx%

    Carl Zeiss SMT GmbH

    德國(歐洲)

    xx%

    LithoVision(CSIRO旗下新創公司)

    澳洲

    xx%

    三星電子微影部門

    韓國

    xx%

    印度電子有限公司 (BEL)

    印度

    xx%

    以下是市場競爭格局中涉及的幾個重點領域:

    • 公司概況
    • 商業策略
    • 主要產品
    • 財務表現
    • 關鍵績效指標
    • 風險分析
    • 近期發展
    • 區域佈局
    • SWOT 分析

從報告中瀏覽關鍵行業見解以及市場數據表和圖表。:

常见问题 (FAQ)

2025年光刻系統市場規模預估為93.5億美元。

2024 年全球市場規模超過 89.5 億美元,預計複合年增長率將超過 5.6%,到 ​​2037 年營收將達到 181.7 億美元。

預計亞太地區將主導光刻系統市場,獲得 42.7% 的收入份額。

市場的主要參與者有 ASML Holding N.V.、尼康公司、佳能公司、Ultratech(Veeco 的一個部門)、NuFlare Technology Inc.、SÜSS MicroTec SE、EV Group(EVG)、Jeol Ltd.、SMEE(上海微電子設備股份有限公司)、應用材料公司、Vistec Electron Beam GmbH、Li不如)、應用材料公司)旗下的新創公司)、三星電子光刻部門、Bharat Electronics Limited(BEL);
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