2025 年至 2037 年全球光刻系統市場規模、預測與趨勢亮點
光刻系統市場規模在 2024 年價值 89.5 億美元，到 2037 年可能將超過 181.7 億美元，在預測期內（即 2025 年至 2037 年）的複合年增長率將超過 5.6%。 2025 年，光刻系統的產業規模估計為 93.5 億美元。
微影系統市場的成長可以歸因於半導體產業的快速擴張。光刻技術是製造微晶片或積體電路最廣泛的半導體製造方法。根據經濟複雜性觀察組織 (Observatory of Economic Complexity) 2023 年發布的數據，美國 出口了價值 34.7 億美元的半導體裝置，其中最主要的出口目的地是中國，出口額達 5.78 億美元。
此外，光刻系統廣泛應用於印刷和包裝領域。借助光刻系統，可以在海報、地圖和報紙上製作高品質的圖形。美國勞工統計局最近發布的製造業數據顯示，2023年生產者物價指數平均上漲3.7%。此外，美國商務部宣布將投入大量資金，以推動半導體供應鏈的發展。例如，美國商務部已向愛德華真空公司（Edwards Vacuum）撥款1,820萬美元，用於在紐約建造一座製造工廠。該項目旨在增強對國內供應鏈的依賴，並降低對進口產品的依賴。
光刻系統領域：成長與挑戰
成長動力
- EUV 微影和計量技術的進步：EUV 微影已成為製造先進半導體產品的關鍵。鑑於光刻系統的戰略重要性，全球各國政府正投入資金擴大半導體產能。美國國家標準與技術研究院啟動了一個先進計量項目，致力於開發光阻配方的解決方案。各公司正在投資 EUV 技術研發，並與政府機構攜手合作，以保持在光刻技術發展的領先地位。
- 半導體製造的策略機會：隨著人工智慧和物聯網技術的日益普及，光刻系統市場有望迎來顯著成長。極紫外光刻技術對於製造高性能晶片至關重要，而先進封裝技術的興起也催生了對多重曝光系統的需求。全球各國政府正投資提升半導體產能。例如，根據美國《晶片法案》，政府已註資522億美元，歐盟《晶片法案》也撥款440億美元，以降低對亞太地區晶圓代工廠的依賴。
- 汽車產業的蓬勃發展：汽車對半導體元件需求的激增顯著影響著微影系統市場的成長軌跡。據估計，傳統燃油汽車和電動車的半導體安裝成本分別為每輛410美元和1,200美元。國際能源協會指出，到2023年，電動車銷量將達到1,000萬輛，所需的晶片數量將達到驚人的數字。晶片製造對微型化的需求正推動光刻系統市場呈指數級增長。
永續發展措施重塑微影系統市場
隨著知名企業紛紛實施永續發展舉措，市場正經歷革命性的變化。這些措施正在降低環境影響並提升營運效率。市場參與者正在選擇節能解決方案並投資綠色製造。此外，回收和翻新已成為延長設備使用壽命的關鍵。這些措施正在光刻市場中創造對永續解決方案的需求，同時滿足嚴格的法規要求。此外，市場參與者的這種傾向也成為市場差異化因素。
|
公司 |
永續發展計畫 |
願景 |
對業務的影響 |
|
翻新了130多台光刻機，再利用率達89%。 |
到2040年，在整個價值鏈上實現溫室氣體中和。 |
提升品牌聲譽，並與全球永續發展標準保持一致。 |
|
|
愛普生 |
到2023年12月，全球所有工廠將實現100%再生能源電力。 |
到2050年，實現碳負排放，並實現地下資源零排放。 |
預計每年減少二氧化碳排放量約400,100噸 |
|
Nikon |
設定SBTi核准目標：到2030年，範圍1和範圍2的排放量減少58%，範圍3的排放量減少25%。 |
促進資源循環，最大限度地減少環境影響。 |
加速永續發展的努力使尼康成為產業領導者。 |
新興貿易動態及其對微影系統市場的影響
過去十年，光刻系統及相關零件的全球貿易前景發生了顯著變化。例如，2024年8月日本光刻製程所必需的光碟化學品出口額年增16.4%，達到83億美元。疫情擾亂了供應鏈，但儘管面臨挑戰，全球貿易仍反彈，2023年達到2,270億美元。此外，日本憑藉著持續的出口成長，在全球供應鏈中發揮重要作用。
貿易資料摘要（2019-2024）
|
年份 |
出口國 |
產品分類 |
出口金額（十億） |
主要目的地 |
|
2022 |
日本 |
無機化學物質 |
9.78美元 |
美國、印度、中國 |
|
2022 |
日本 |
電子光碟化學品 |
5.18美元 |
中國台北、中國、韓國 |
|
2023 |
中國 |
化學產品 |
227美元 |
韓國、印度、美國 |
|
2024 |
日本 |
電子光碟化學品 |
82億美元 |
中國台北、中國、韓國 |
挑戰：
- 高資本投入與成本障礙：先進微影系統的成本超過151美元每台設備高達數百萬美元。高昂的前期投資推遲了小型半導體晶圓廠的建設，並限制了光刻系統市場的參與。此外，高昂的研發資本成本進一步限制了新競爭對手的進入。
- 供應鏈限制：光刻系統需要光源和反射鏡等精密組件。大多數組件的採購來源非常有限。這些因素會導致生產中斷，並可能延遲生產和交付。
光刻系統市場：關鍵見解
| 報告屬性 | 詳細資訊 |
|---|---|
|
基準年 |
2024 |
|
預測年份 |
2025-2037 |
|
複合年增長率 |
5.6% |
|
基準年市場規模（2024年） |
89.5億美元 |
|
預測年度市場規模（2037 年） |
181.7億美元 |
|
區域範圍 |
|
光刻系統細分
應用（汽車、消費性電子、半導體、醫療器材、航太與國防）
由於對人工智慧晶片和高效能運算的需求不斷增長，半導體製造領域預計將佔據光刻系統市場份額的 62.3%。光刻系統對於製造接近 5 奈米的升級節點晶片至關重要。美國商務部已於 2024 年撥款 392 億美元，將半導體生產列為國家優先事項。此外，歐盟的目標是使全球半導體市場規模翻倍，這需要在 EUV 微影系統方面進行巨額投資。此外，美國國家標準與技術研究院 (NIST) 的數據顯示，到 2030 年，人工智慧晶片的需求預計將激增 5 倍，這將需要更多採用光刻技術製造的工具。
科技（EUV 微影、DUV 微影、I 線微影）
預計到 2037 年，EUV 技術將佔據最高 48.5% 的市場。光刻系統市場的成長可以歸因於對精度的高要求。 Research Nester 表示，EUV 可將製程步驟減少近 32-50%，進而提高效率和良率。台積電和三星等領先的市場參與者都依賴 EUV 來製造下一代晶片。此外，歐盟委員會將 EUV 列為半導體產業的「關鍵技術」。此外，EUV 設備已成為下一代半導體性能的關鍵。
我們對光刻系統市場的深入分析涵蓋以下細分領域：
|
類型 |
|
|
交易 |
|
|
應用 |
|
|
最終使用者 |
|
|
科技 |
|
|
波長 |
|
Vishnu Nair
Head - Global Business Development根據您的需求自訂本報告 — 與我們的顧問聯繫，獲得個人化的洞察與選項。
光刻系統產業 - 區域概要
亞太市場分析
預計亞太地區將主導光刻系統市場，佔42.7%的營收份額。 中國政府已為2023年的晶片製造撥款1800億美元，以推動本土光刻能力的發展。中國資訊通信研究院2023年發布的數據顯示，已有730萬家企業採用了與光刻技術相關的解決方案。除此之外，日本已將ICT預算的14%用於在2024年升級光刻系統。 印度電子和資訊技術部報告稱，2015年至2023年間，與光刻技術相關的資金激增97.4%，為超過128萬家中小型企業提供支援。
北美市場分析
預計北美光刻系統市場將佔據32.6%的營收份額。市場成長主要得益於半導體代工廠（尤其是美國）的旺盛需求。根據寬頻公平、存取和部署(BEAD)計劃，已撥款427億美元用於建設高速網路。這些政策促使晶片製造商提高晶圓產量，以滿足資訊通訊技術 (ICT) 產業的硬體需求。這些趨勢確保了美國在高價值光刻設備部署市場繼續佔據主導地位。
加拿大的光刻系統市場也在以創新為重點的策略的推動下穩步成長。加拿大創新、科學與經濟發展部 (ISED) 為該國的先進製造業提供支持，其中包括半導體加工。這些戰略投資彰顯了該國致力於提升其在全球半導體市場地位的決心。此外，該國也特別致力於推動光刻系統的發展，以實現電子產品開發的現代化。 2022 年，加拿大國家研究委員會 (National Research Council) 的 CPFC 投資 9,040 萬美元用於升級光子學製造設施，以促進半導體和光刻技術的進步。
主導光刻系統領域的公司
-
隨著老牌關鍵廠商、IT巨頭以及新進業者紛紛投資先進技術，光刻系統的競爭格局正快速演變。市場主要廠商專注於開發符合嚴格監管規範和消費者需求的產品。這些主要參與者正在採取多種策略，例如併購、合資、合作以及推出新產品，以增強其產品基礎並鞏固其市場地位。
全球前十五大微影系統市場製造商
公司名稱
原產國
約。市佔率 (%)
ASML Holding N.V.
荷蘭（歐洲）
65%
尼康公司
日本
10%
佳能公司
日本
8%
Ultratech（Veeco 旗下公司）
美國
4%
NuFlare Technology Inc.
日本
2%
SÜSS MicroTec SE
德國（歐洲）
xx%
EV 集團 (EVG)
奧地利（歐洲）
xx%
日本電子株式會社
日本
xx%
SMEE（上海微電子裝備有限公司）
中國（供參考）
xx%
應用材料公司
美國
xx%
Vistec Electron Beam GmbH
德國（歐洲）
xx%
Carl Zeiss SMT GmbH
德國（歐洲）
xx%
LithoVision（CSIRO旗下新創公司）
澳洲
xx%
三星電子微影部門
韓國
xx%
印度電子有限公司 (BEL)
印度
xx%
以下是市場競爭格局中涉及的幾個重點領域：
- 公司概況
- 商業策略
- 主要產品
- 財務表現
- 關鍵績效指標
- 風險分析
- 近期發展
- 區域佈局
- SWOT 分析
最新動態
- 2024年3月，Nikon推出了一款新型深紫外線(DUV)浸沒式微影系統，產能提升至每小時300片晶圓。該公司2024年第一季的半導體設備收入飆升18.2%。
- 2024年1月，阿斯麥(ASML)推出了一款高數值孔徑(NA)極紫外(EUV)微影系統。本產品的主要特點是能夠實現2奈米乃至更均勻的晶片生產。英特爾獲得了首台高數值孔徑EUV光刻機，並計劃在2025年實現2奈米晶片的生產。
作者致谢: Richa Gupta
- Report ID: 4514
- Published Date: Jun 30, 2025
- Report Format: PDF, PPT
