3M 推出了新型磨料 3M Xtract Cubitro II 710W 淨磨盤,可去除高達 97% 的灰塵顆粒。它具有獨特的形狀,使其能夠進入難以到達的區域,並比傳統研磨盤去除更多的灰塵顆粒。
透過從 Ascensus Specialties LLC 收購 Strem Chemicals UK,Ascensus 業務擴展到高純度催化劑、配體、有機金屬、羰基金屬和 CVD/ALD 前體。
作者學分: Smruti Ranjan, Rajrani Baghel
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