2025 年至 2037 年全球光刻系统市场规模、预测和趋势亮点
光刻系统市场规模在 2024 年价值 89.5 亿美元，到 2037 年可能超过 181.7 亿美元，在预测期内，即 2025 年至 2037 年期间，复合年增长率将超过 5.6%。2025 年，光刻系统的行业规模估计为 93.5 亿美元。
光刻系统市场的增长可以归因于半导体行业的快速扩张。光刻技术是制造微芯片或集成电路最广泛的半导体制造方法。根据经济复杂性观察组织 (The Observatory of Economic Complexity) 2023 年发布的数据，美国 出口了价值 34.7 亿美元的半导体器件，其中最主要的出口目的地是中国，出口额达 5.78 亿美元。
此外，光刻系统广泛应用于印刷和包装领域。借助光刻系统，可以在海报、地图和报纸上制作高质量的图形。美国劳工统计局最近发布的制造业数据显示，2023年生产者价格指数平均上涨3.7%。此外，美国商务部已宣布将投入大量资金，以推动半导体供应链的发展。例如，美国商务部已向爱德华真空公司（Edwards Vacuum）拨款1820万美元，用于在纽约建设一座制造工厂。该项目旨在增强对国内供应链的依赖，并降低对进口产品的依赖。
光刻系统领域：增长与挑战
增长动力
- EUV光刻和计量技术的进步：EUV光刻已成为制造先进半导体产品的关键。鉴于光刻系统的战略重要性，全球各国政府正在投入资金扩大半导体产能。美国国家标准与技术研究院启动了一个先进计量项目，致力于开发光刻胶配方的解决方案。各公司正在投资EUV技术的研发，并与政府机构携手合作，以保持在光刻技术发展的领先地位。
- 半导体制造的战略机遇：随着人工智能和物联网技术的日益普及，光刻系统市场有望迎来显著增长。极紫外光刻技术对于制造高性能芯片至关重要，而先进封装技术的兴起催生了对多重曝光系统的需求。全球各国政府正在投资提升半导体产能。例如，根据美国《芯片法案》，政府已投入522亿美元，欧盟《芯片法案》则拨款440亿美元，以降低对亚太地区晶圆代工厂的依赖。
- 汽车行业的蓬勃发展：汽车对半导体需求的激增显著影响着光刻系统市场的增长轨迹。据估计，传统燃油汽车和电动汽车的半导体安装成本分别为每辆410美元和1200美元。国际能源协会指出，到2023年，电动汽车销量将达到1000万辆，所需的芯片数量将达到惊人的数字。芯片制造对微型化的需求正推动光刻系统市场呈指数级增长。
可持续发展举措重塑光刻系统市场
随着知名企业纷纷实施可持续发展举措，市场正在经历革命性的变化。这些举措正在降低环境影响并提升运营效率。市场参与者正在选择节能解决方案并投资绿色制造。此外，回收和翻新已成为延长设备使用寿命的关键。这些努力正在光刻市场创造对可持续解决方案的需求，同时满足严格的法规要求。此外，市场参与者的这种倾向也成为市场差异化因素。
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公司 |
可持续发展计划 |
愿景 |
对业务的影响 |
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ASML |
翻新了130多台光刻机，重复使用率达到89%。 |
到2040年，在整个价值链上实现温室气体中和。 |
提升品牌声誉，并与全球可持续发展标准保持一致。 |
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爱普生 |
到12月，在全球所有工厂实现100%可再生能源电力2023年。 |
到2050年实现碳负排放，并实现地下资源零排放。 |
预计每年减少二氧化碳排放量约400,100吨 |
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尼康 |
设定SBTi批准的目标：到2030年，范围1和范围2的排放量减少58%，范围3的排放量减少25%。 |
促进资源循环，最大限度地减少环境影响。 |
加速可持续发展努力，使尼康成为行业领导者。 |
新兴贸易动态及其对光刻系统市场的影响
全球贸易视角光刻系统及相关部件在过去十年中经历了显著的变化。例如，2024年8月，日本对光刻工艺至关重要的光盘化学品出口同比增长16.4%，达到83亿美元。疫情扰乱了供应链，但尽管面临挑战，全球贸易仍出现反弹，2023年达到2270亿美元。此外，日本凭借其持续的出口增长，在全球供应链中发挥着重要作用。
贸易数据摘要（2019-2024）
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年份 |
出口国 |
产品类别 |
出口额（十亿） |
主要目的地 |
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2022 |
日本 |
无机化学品 |
9.78美元 |
美国、印度、中国 |
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2022 |
日本 |
电子光盘化学品 |
5.18美元 |
中国台北，中国韩国 |
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2023年 |
中国 |
化工产品 |
227美元 |
韩国、印度、美国 |
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2024年 |
日本 |
电子光盘化学品 |
82亿美元 |
中国台北、中国、韩国 |
挑战：
- 高资本投入和成本壁垒：先进光刻系统每台成本超过1.51亿美元。高昂的前期投资推迟了小型半导体晶圆厂的建设，并限制了光刻系统市场的参与。此外，研发资金成本高昂，进一步限制了新竞争对手的进入。
- 供应链限制：光刻系统需要光源和反射镜等精密部件。大多数部件的采购来源非常有限。这些因素会导致生产中断，并可能延迟生产和交付。
光刻系统市场：关键见解
| 报告属性 | 详细信息 |
|---|---|
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基准年 |
2024 |
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预测年份 |
2025-2037 |
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复合年增长率 |
5.6% |
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基准年市场规模（2024年） |
89.5亿美元 |
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预测年度市场规模（2037 年） |
181.7亿美元 |
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区域范围 |
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光刻系统细分
应用（汽车、消费电子、半导体、医疗设备、航空航天和国防）
由于对人工智能芯片和高性能计算的需求不断增长，预计半导体制造领域将占据 62.3% 的光刻系统市场份额。光刻系统对于制造接近 5 纳米的升级节点芯片至关重要。美国商务部在 2024 年拨款 392 亿美元，将半导体生产列为国家优先事项。此外，欧盟的目标是使全球半导体市场规模翻一番，这需要在 EUV 光刻系统方面进行巨额投资。此外，美国国家标准与技术研究院 (NIST) 的数据显示，到 2030 年，人工智能芯片的需求预计将激增 5 倍，这将需要更多采用光刻技术制造的工具。
技术（EUV 光刻、DUV 光刻、I 线光刻）
预计到 2037 年，EUV 技术将占据 48.5% 的最大市场份额。光刻系统市场的增长可以归因于对精度的高要求。Research Nester 表示，EUV 可将工艺步骤减少近 32-50%，从而提高效率和良率。台积电和三星等领先的市场参与者都依赖 EUV 来制造下一代芯片。此外，欧盟委员会将 EUV 列为半导体行业的“关键技术”。此外，EUV 设备已成为实现下一代半导体性能的关键。
我们对光刻系统市场的深入分析涵盖以下细分领域：
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类型 |
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贸易 |
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应用 |
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最终用户 |
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技术 |
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波长 |
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Vishnu Nair
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光刻系统行业 - 区域分析
亚太市场分析
预计亚太地区将主导光刻系统市场，占据42.7%的收入份额。中国政府已在2023年拨款1800亿美元用于芯片制造，以推动本土光刻能力的发展。中国信息通信研究院2023年发布的数据显示，已有730万家企业采用了与光刻技术相关的解决方案。除此之外，日本已投入14%的ICT预算，用于在2024年升级光刻系统。印度电子和信息技术部报告称，2015年至2023年间，与光刻技术相关的资金将激增97.4%，为超过128万家中小型企业提供支持。
北美 市场分析
预计北美光刻系统市场将占据32.6%的收入份额。市场增长主要得益于半导体代工厂（尤其是美国）的高需求。根据宽带公平、接入和部署 (BEAD) 计划，加拿大已拨款 427 亿美元用于建设高速互联网。这些政策促使芯片制造商提高晶圆产量，以满足 ICT 行业的硬件需求。这些趋势确保了美国在高价值光刻设备部署市场中继续占据主导地位。
加拿大的光刻系统市场也正经历着以创新为重点的战略推动的稳步增长。加拿大创新、科学与经济发展部 (ISED) 为该国的先进制造业提供支持，其中包括半导体加工。这些战略投资凸显了加拿大致力于提升其在全球半导体市场地位的决心。此外，加拿大还特别致力于推进光刻系统的发展，以实现电子产品开发的现代化。 2022 年，加拿大国家研究委员会 CPFC 投资 9040 万美元用于增强光子学制造设施，以促进半导体和光刻技术的进步。
主导光刻系统领域的公司
-
随着老牌关键厂商、IT巨头以及新进入者纷纷投资先进技术，光刻系统的竞争格局正在迅速演变。市场主要厂商专注于开发符合严格监管规范和消费者需求的产品。这些关键参与者正在采取多种策略，例如并购、合资、合作以及推出新产品，以增强其产品基础并巩固其市场地位。
全球前十五大光刻系统市场制造商
公司名称
国家/地区原点
大约市场份额 (%)
ASML Holding N.V.
荷兰（欧洲）
65%
尼康公司
日本
10%
佳能公司
日本
8%
Ultratech（Veeco 旗下子公司）
美国
4%
NuFlare Technology公司
日本
2%
SÜSS MicroTec SE
德国（欧洲）
xx%
EV 集团 (EVG)
奥地利 (欧洲)
xx%
日本电子株式会社
日本
xx%
SMEE（上海微电子装备有限公司）
中国（供参考）
xx%
应用材料公司
美国
xx%
Vistec Electron Beam GmbH
德国（欧洲）
xx%
Carl Zeiss SMT GmbH
德国（欧洲）
xx%
LithoVision（CSIRO旗下初创公司）
澳大利亚
xx%
三星电子光刻部门
韩国
xx%
巴拉特电子有限公司 (BEL)
印度
xx%
以下是市场竞争格局中几个重点关注的领域：
- 公司概况
- 商业战略
- 主要产品
- 财务业绩
- 关键绩效指标
- 风险分析
- 近期发展
- 区域布局
- SWOT分析
最新发展
- 2024年3月，尼康推出了一款新型DUV浸没式光刻系统，其吞吐量提升至每小时300片晶圆。该公司2024年第一季度的半导体设备收入飙升18.2%。
- 2024年1月，ASML推出了一款高NA EUV光刻系统。该产品的主要特点是能够实现2纳米甚至更均匀的芯片生产。英特尔获得了第一台高NA EUV机器，并计划在2025年实现2纳米芯片生产。
作者致谢: Richa Gupta
- Report ID: 4514
- Published Date: Jun 19, 2025
- Report Format: PDF, PPT
