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Marktgröße und -anteil von Sputterzielen, nach Material (reines Metall, Legierung, Verbindung, Oxid, Isotop), Anwendung (Luft- und Raumfahrt und Verteidigung, Elektronik und Halbleiter, Glasbeschichtung, Solarzellenbeschichtung, Festoxid-Brennstoffzellen), Sputtermethode (Hochfrequenz, Gleichstrom, reaktiv, Magnetron, Gasfluss, ionenunterstütztes Sputtern) – Globale Angebots- und Nachfrageanalyse, Wachstumsprognosen, Statistikbericht 2025–2037

  • Berichts-ID: 5018
  • Veröffentlichungsdatum: Dec 20, 2024
  • Berichtsformat: PDF, PPT

Globale Marktgröße, Prognose und Trendhighlights für 2025–2037

Die Größe des

Sputtering-Target-Marktes wurde im Jahr 2024 auf 6,23 Milliarden US-Dollar geschätzt und wird bis 2037 voraussichtlich 7,96 Milliarden US-Dollar überschreiten und im Prognosezeitraum, d. h. zwischen 2025 und 2037, um mehr als 1,9 % CAGR wachsen. Im Jahr 2025 wird die Branchengröße von Sputtertargets auf 6,42 Milliarden US-Dollar geschätzt.

Dieses Wachstum des Marktes wird voraussichtlich durch die wachsende Nachfrage nach erneuerbaren Energien beeinflusst. Damit wurde die Kapazität der erneuerbaren Energien im Jahr 2022 weltweit auf etwa 7 % erhöht. Daher nimmt die Verwendung von Sputtertargets zu, da diese in großem Umfang bei der Herstellung von Dünnschichtsolarzellen eingesetzt werden. Darüber hinaus ist Sputtern eine Technik, mit der Materialien beschichtet werden, um ihre Haltbarkeit zu erhöhen. Die Magnetron-Sputtering-Technologie wird zum Härten von Bohrern sowie von Korrosions- und Anti-Seize-Beschichtungen, Werkzeugen und anderen Verfahren eingesetzt.

Darüber hinaus dürfte der Anstieg der Bauaktivitäten auch Auswirkungen auf den Sputter-Zielmarkt haben. Dies ist auf die Fähigkeit des Sputtertargets zurückzuführen, strahlungsarmes Beschichtungsglas herzustellen, das auch als Low-E-Glas bekannt ist. Darüber hinaus zielt dieses Glas darauf ab, Energie zu sparen, das Licht zu kontrollieren und dem Haus ein ästhetisches Aussehen zu verleihen. Daher wird dieses Glas in der Bauindustrie sehr bevorzugt, was die Nachfrage nach unterstützenden Zielen weiter steigert. Darüber hinaus sind Mehrfachschichten in der Röntgenoptik von entscheidender Bedeutung, da sie in vielen verschiedenen Bereichen eingesetzt werden, beispielsweise in der Synchrotronstrahlung, bei Freie-Elektronen-Lasern (FELs), in der medizinischen Optik und bei weltraumgestützten Röntgenteleskopen. Daher wächst die Nachfrage nach Sputtertargets. Darüber hinaus wird in vielen Datenspeichergeräten Magnetronsputtern eingesetzt. Die Produktion von CDs, DVDs, Laserdiscs, Festplatten, Disketten und mikroelektrischen Flash-Speichern ist damit möglich. Darüber hinaus kann es zur Herstellung nanostrukturierter Materialien eingesetzt werden.

Sputtering Target
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Wachstumstreiber

  • Wachstum der Nachfrage nach Unterhaltungselektronik

Verschiedene Unterhaltungselektronikgeräte wie Smartphones, Laptops und mehr verzeichnen einen Anstieg ihrer Nachfrage. Beispielsweise wird die Gesamtzahl der Smartphone-Nutzer im Jahr 2023 weltweit etwa 5 Milliarden betragen, was etwa 85 % der Weltbevölkerung entspricht. Aus diesem Grund wird erwartet, dass auch die Nachfrage nach Sputtertargets steigen wird. Dies liegt daran, dass integrierte Schaltkreise und Dünnschichttransistoren, die in elektronischen Geräten wie Smartphones, Laptops und Fernsehern verwendet werden, mithilfe von Sputtertargets in großen Mengen hergestellt werden.

  • Steigende Nachfrage nach Seltenerdmaterialien

In den wenigen Jahrzehnten ab 2023 dürfte die Nachfrage nach Seltenerdmaterialien weltweit auf etwa 500 % oder mehr steigen. Seltenerdelemente haben typischerweise einzigartige elektrische und optische Eigenschaften und werden daher häufig als Sputtertargets verwendet.

  • Anstieg bei der Verwendung von Sputtertargets in der AutomotiveProduktion

Verschiedene Automobilkomponenten wie Autoscheinwerfer & Rücklichter, Antriebsstrangkomponenten und Autoverkleidungskomponenten werden mithilfe der Sputtertarget-Technologie hergestellt. Mit der zunehmenden Produktion dieser Komponenten wird daher voraussichtlich auch die Nutzung dieser Technologie in der Automobilindustrie beeinflusst.

Herausforderungen

  • Hoher Preis des Sputtertargets – Der Preis des Endprodukts steht in direktem Zusammenhang mit den Kosten der technischen Entwicklung, dem komplizierten Produktionsprozess und den in den Maschinen, Werkzeugen oder Systemen verwendeten Targets. Es wird geschätzt, dass der Preis des Endprodukts aufgrund dieser Erhöhung steigen wird. Diese Einschränkungen könnten daher verhindern, dass der Sputter-Zielmarkt wächst.
  • Schaden an etwas Plasma
  • Anstieg bei der Nutzung von Alternativen

Markt für Sputtertargets: Wichtige Erkenntnisse

Berichtsattribut Einzelheiten

Basisjahr

2024

Prognosejahr

2025-2037

CAGR

1,9 %

Marktgröße im Basisjahr (2024)

6,23 Milliarden US-Dollar

Prognosejahr der Marktgröße (2037)

7,96 Milliarden US-Dollar

Regionaler Geltungsbereich

  • Nordamerika (USA und Kanada)
  • Asien-Pazifik (Japan, China, Indien, Indonesien, Malaysia, Australien, Südkorea, übriger Asien-Pazifik)
  • Europa (Großbritannien, Deutschland, Frankreich, Italien, Spanien, Russland, NORDIC, übriges Europa)
  • Lateinamerika (Mexiko, Argentinien, Brasilien, übriges Lateinamerika)
  • Naher Osten und Afrika (Israel, GCC-Nordafrika, Südafrika, Rest des Nahen Ostens und Afrika)
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Sputtertarget-Segmentierung

Material (reines Metall, Verbindung, Legierung, Isotop, Oxidziele)

Der Markt für Sputtertargets aus dem Segment der Targets aus reinem Metall wird voraussichtlich bis Ende 2037 den höchsten Umsatz generieren. Dieses Wachstum dürfte durch einen Anstieg der Verwendung von Targets aus reinem Metall in verschiedenen Konfigurationen, einschließlich planarer, kreisförmiger, rechteckiger und mehr, für den Sputter- und Verdampfungsprozess beeinflusst werden. Der Anstieg der Produktion von hochbrechenden Filmen für Infrarotfilter, ferromagnetischen Dünnfilmen, Halbleiterfilmen, fotoleitenden Filmen und Schmierfilmen unter Verwendung dieser Targets trägt ebenfalls zum Umsatzwachstum dieses Segments bei.

Sputterverfahren (Hochfrequenz, Gleichstrom, Reaktiv, Magnetron, Gasfluss, ionenunterstütztes Sputtern)

Es wird erwartet, dass das Magnetron-Sputtering-Segment im Sputtering-Zielmarkt in Kürze ein deutliches Wachstum verzeichnen wird. Dies ist auf den Einsatz von Magnetron-Sputterverfahren in verschiedenen industriellen Anwendungen zurückzuführen, einschließlich der Herstellung korrosionsbeständiger und reibungsarmer Beschichtungen.

Unsere eingehende Analyse des globalen Marktes umfasst die folgenden Segmente: 

         Material
  • Reine Metallziele
  • Legierungsziele
  • Zusammengesetzte Ziele
  • Oxidziele
  • Isotopenziele

         Bewerbung
  • Luft- und Raumfahrt & Verteidigung
  • Elektronik & Halbleiter
  • Glasbeschichtung
  • Solarzellenbeschichtung
  • Festoxidbrennstoffzellen

             Sputterverfahren
  • Hochfrequenzsputtern
  • Gleichstromsputtern
  • Reaktives Sputtern
  • Magnetron-Sputtern
  • Gasflusssputtern
  • Ionenunterstütztes Sputtern

 

Vishnu Nair
Vishnu Nair
Leiter - Globale Geschäftsentwicklung

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Sputtertarget-Branche – regionale Zusammenfassung

Nordamerikanische Marktprognose

Es wird prognostiziert, dass die nordamerikanische Industrie bis 2037 einen Großteil des Umsatzanteils von 30 % dominieren wird, gestützt durch die wachsende Flugzeugproduktion. Beispielsweise wurde prognostiziert, dass die Flotte der allgemeinen Luftfahrt in den Vereinigten Staaten im Jahr 2021 rund 204.404 Flugzeuge umfassen wird, ein Wachstum gegenüber dem Vorjahr. Daher wächst die Marktnachfrage in dieser Region, da Sputtertargets als Beschichtungsanwendung in der Luft- und Raumfahrt eingesetzt werden.

APAC-Marktstatistiken

Der Sputter-Zielmarkt im asiatisch-pazifischen Raum wird im Prognosezeitraum voraussichtlich ein bemerkenswertes Wachstum verzeichnen. Der Hauptfaktor für das Wachstum des Marktes in dieser Region ist das wachsende öffentliche Interesse an Unterhaltungselektronik. Darüber hinaus wird im asiatisch-pazifischen Raum geschätzt, dass der Markt in China dominiert, da die Nachfrage nach Automobilen, insbesondere Elektrofahrzeugen, hoch ist.

Sputtering Target Market Demand
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Top-Unternehmen, die den Markt für Sputtertargets dominieren

    • JX Nippon Mining & Metals Corporation
      • Unternehmensübersicht
      • Geschäftsstrategie
      • Wichtige Produktangebote
      • Finanzielle Leistung
      • Wichtige Leistungsindikatoren
      • Risikoanalyse
      • Neueste Entwicklung
      • Regionale Präsenz
      • SWOT-Analyse
    • Praxair Technology, Inc.
    • Plansee SE
    • Mitsui Mining & Smelting Co, Ltd.
    • Hitachi, Ltd.
    • Honeywell International Inc.
    • Sumitomo Chemical Co., Ltd.
    • ULVAC, Inc.
    • Materion Corporation
    • GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.

Neueste Entwicklungen

  • Hannover 96 aus der deutschen Bundesliga und Mito HollyHock aus der Japan Professional Football League (J. League) haben Partnerschaftsvereinbarungen mit TANIOBIS GmbH, einem Konzernunternehmen von JX Nippon Mining & Metals Corporation.
  • Hitachi, Ltd. in Indien gab eine Partnerschaft mit M/s NASH INDUSTRIES bekannt, einem Pionier bei der Bereitstellung einzigartiger Lösungen in den Bereichen Design, Präzisionsblechstanzung, Fertigung und Baugruppen, um Steuerungen für bürstenlose Gleichstrommotoren mit integrierten Einzelchip-ICs bereitzustellen, die bei Hitachi Power Semiconductor Device, Ltd. Japan hergestellt werden.
  • Report ID: 5018
  • Published Date: Dec 20, 2024
  • Report Format: PDF, PPT
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Häufig gestellte Fragen (FAQ)

Im Jahr 2025 wird die Branchengröße von Sputtertargets auf 6,42 Milliarden US-Dollar geschätzt.

Die Zielmarktgröße für Sputtering wurde im Jahr 2024 auf 6,23 Milliarden US-Dollar geschätzt und dürfte bis 2037 7,96 Milliarden US-Dollar überschreiten und im Prognosezeitraum, d. h. zwischen 2025 und 2037, um mehr als 1,9 % CAGR wachsen. Das Marktwachstum wird durch die wachsende Nachfrage nach Unterhaltungselektronik, die steigende Nachfrage nach Seltenerdmaterialien und den zunehmenden Einsatz von Sputtertargets in der Automobilproduktion vorangetrieben.

Es wird prognostiziert, dass die Industrie in Nordamerika bis 2037 einen Großteil des Umsatzes mit einem Anteil von 30 % dominieren wird, gestützt durch die wachsende Flugzeugproduktion in der Region.

Die Hauptakteure auf dem Markt sind JX Nippon Mining & Metals Corporation, Praxair Technology, Inc., Plansee SE, Mitsui Mining & Smelting Co, Ltd., Hitachi, Ltd., Honeywell International Inc., Sumitomo Chemical Co., Ltd., ULVAC, Inc., Materion Corporation, GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.

Sputtertarget Umfang des Marktberichts

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Preeti Wani
Preeti Wani
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