Größe und Anteil des Sputter-Zielmarktes nach Material (reines Metall Legierung Verbindung Oxid Isotop); Anwendung (Luft- und Raumfahrt & Verteidigung Elektronik &; Halbleiter Glasbeschichtung Solarzellenbeschichtung Festoxid-Brennstoffzellen); Sputterverfahren (Hochfrequenz Gleichstrom Reaktiv Magnetron Gasfluss ionenunterstütztes Sputtern) - Globale Angebots- und Nachfrageanalyse Wachstumsprognosen Statistikbericht 2023-2035

  • Berichts-ID: 5018
  • Veröffentlichungsdatum: Jun 14, 2023
  • Berichtsformat: PDF, PPT

Globale Marktgroesse Prognose und Trendhighlights im Jahr 2023 â€" 2035

Die Größe des Sputter-Zielmarktes wird bis Ende 2035 mehr als 8 Mrd. USD erreichen und im Prognosezeitraum d. h. 2023 – 2035 mit einer CAGR von 2 % wachsen. Im Jahr 2022 lag die Branchengröße des Sputterziels bei etwa 6 Milliarden US-Dollar. Es wird prognostiziert dass dieses Wachstum des Marktes durch die wachsende Nachfrage nach erneuerbaren Energien beeinflusst wird. So wurde im Jahr 2022 die Kapazität erneuerbarer Energien weltweit auf etwa 7 % erhöht. Daher ist die Verwendung von Sputtertargets auf dem Vormarsch da es in großem Umfang bei der Herstellung von Dünnschichtsolarzellen eingesetzt wird. Darüber hinaus ist das Sputtern eine Technik die verwendet wird um Materialien zu beschichten um ihre Haltbarkeit zu erhöhen. Die Magnetron-Sputter-Technologie wird zum Härten von Bohrkronen sowie zur Korrosions- und Anti-Seize-Beschichtung von Werkzeugen und anderen Verfahren eingesetzt.

Darüber hinaus dürfte sich der Anstieg der Bautätigkeit auch auf den Zielmarkt Sputtern auswirken. Dies ist auf die Fähigkeit des Sputtertargets zurückzuführen strahlungsarmes Beschichtungsglas herzustellen das auch als Low-E-Glas bezeichnet wird. Darüber hinaus zielt dieses Glas darauf ab Energie zu sparen das Licht zu kontrollieren und dem Haus ein ästhetisches Aussehen zu verleihen. Daher bevorzugt die Bauindustrie dieses Glas sehr was die Nachfrage nach unterstützenden Zielen weiter ankurbelt. Darüber hinaus sind Multilayer in der Röntgenoptik von entscheidender Bedeutung da sie in vielen verschiedenen Bereichen eingesetzt werden wie z. B. Synchrotronstrahlung Freie-Elektronen-Laser (FELs) medizinische Optik und weltraumgestützte Röntgenteleskope. Daher wächst die Nachfrage nach Sputtertargets. Darüber hinaus wird in vielen Datenspeichern das Magnetron-Sputtern eingesetzt. Die Herstellung von CDs DVDs Laserdiscs Festplatten Disketten und mikroelektrischen Flash-Speichern ist damit möglich. Darüber hinaus kann es zur Herstellung von nanostrukturierten Materialien eingesetzt werden.


Sputtering Target Market
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Zielmarkt Sputtern: Wachstumstreiber und Herausforderungen

Wachstumstreiber

  • Steigende Nachfrage nach Unterhaltungselektronik

Verschiedene Unterhaltungselektronik wie Smartphones Laptops und mehr verzeichnen einen Nachfrageschub. Im Jahr 2023 wird die Gesamtzahl der Smartphone-Nutzer weltweit etwa 5 Milliarden betragen was etwa 85 % der Weltbevölkerung entspricht. Aus diesem Grund wird erwartet dass auch die Nachfrage nach Sputtertarget steigen wird. Dies liegt daran dass integrierte Schaltkreise und Dünnschichttransistoren die in elektronischen Geräten wie Smartphones Laptops und Fernsehern verwendet werden mit Sputtertarget in großen Mengen hergestellt werden.

  • Steigende Nachfrage nach Seltenen Erden

In den wenigen Jahrzehnten ab 2023 wird die Nachfrage nach Seltenen Erden weltweit auf etwa 500 % oder mehr ansteigen. Seltene Erden haben in der Regel einzigartige elektrische und optische Eigenschaften und werden daher häufig als Sputtertargets verwendet.

Verschiedene Automobilkomponenten wie Autoscheinwerfer und -rücklichter Antriebsstrangkomponenten und Auto-Trim-Komponenten nutzen die herzustellende Sputtertarget-Technologie. Daher wird mit der wachsenden Produktion dieser Komponenten auch die Nutzung dieser Technologie durch die Automobilindustrie voraussichtlich beeinflusst.

herausforderungen

  • Hoher Preis des Sputterziels - Der Preis des Endprodukts steht in direktem Zusammenhang mit den Kosten für die technische Entwicklung dem komplizierten Produktionsprozess und den Zielen die in den Maschinen Werkzeugen oder Systemen verwendet werden. Es wird geschätzt dass der Preis für das Endprodukt aufgrund dieses Anstiegs steigen wird. Diese Einschränkungen könnten daher verhindern dass sich der Zielmarkt für Sputtern ausdehnt.
  • Schädigung eines Teils des Plasmas
  • Anstieg der Nutzung alternativer

Sputtering-Zielmarkt: Wichtige Erkenntnisse

Basisjahr

2022

Prognosejahr

2023-2035

CAGR

~2%

Basisjahr Marktgröße (2022)

~ 6 Milliarden US-Dollar

Prognosejahr Marktgröße (2035)

~ 8 Mrd. USD

Regionaler Geltungsbereich

  • Nordamerika (USA und Kanada)
  • Lateinamerika (Mexiko Argentinien Rest von Lateinamerika)
  • Asien-Pazifik (Japan China Indien Indonesien Malaysia Australien Rest Asien-Pazifik)
  • Europa
  • (Großbritannien Deutschland Frankreich Italien Spanien Russland Skandinavien Rest von Europa)
  • Naher Osten und Afrika (Israel GCC Nordafrika Südafrika Rest des Nahen Ostens und Afrika)
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Segmentierung von Sputter-Zielen

Material (Reinmetall Verbindung Legierung Isotop Oxidtargets)

Der Zielmarkt Sputtern aus dem Segment der reinen Metalltargets soll bis Ende 2035 den höchsten Umsatz generieren. Dieses Wachstum wird durch einen Anstieg der Verwendung von reinen Metalltargets in verschiedenen Konfigurationen einschließlich planar kreisförmig rechteckig und mehr für den Sputter- und Verdampfungsprozess beeinflusst. Auch die gestiegene Produktion von hochbrechenden Folien für Infrarotfilter ferromagnetische Dünnschichten Halbleiterschichten photoleitende Folien und Schmierfilme mit diesen Targets trägt zum Umsatzanstieg in diesem Segment bei.

Sputterverfahren (Hochfrequenz- Gleichstrom- Blind- Magnetron- Gasfluss- ionenunterstütztes Sputtern)

Es wird erwartet dass das Segment des Magnetron-Sputterns im Zielmarkt des Sputterns in Kürze ein deutliches Wachstum verzeichnen wird. Dies ist auf den Einsatz von Magnetron-Sputterverfahren in verschiedenen industriellen Anwendungen zurückzuführen darunter die Herstellung von korrosionsbeständigen und reibungsarmen Beschichtungen.

Unsere eingehende Analyse des globalen Marktes umfasst die folgenden Segmente: 

         Material

  • Targets aus reinem Metall
  • Legierungs-Targets
  • Zusammengesetzte Ziele
  • Oxid-Targets
  • Isotopen-Targets

         Anwendung

  • Luft- und Raumfahrt & Verteidigung
  • Elektronik &; Halbleiter
  • Glasbeschichtung
  • Beschichtung von Solarzellen
  • Festoxid-Brennstoffzellen

             Sputter-Verfahren

  • Radiofrequenz-Sputtern
  • Gleichstrom-Sputtern
  • Reaktives Sputtern
  • Magnetron-Sputtern
  • Gasfluss-Sputtern
  • Ionengestütztes Sputtern

 


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Sputter-Zielindustrie - Regionale Zusammenfassung

Marktprognose für Nordamerika

Der nordamerikanische Zielmarkt für Sputtern wird bis Ende 2035 das größte Wachstum verzeichnen unterstützt durch die wachsende Produktion von Flugzeugen. So wurde beispielsweise prognostiziert dass die Flotte der Allgemeinen Luftfahrt im Jahr 2021 in den Vereinigten Staaten etwa 204.404 Flugzeuge umfassen wird ein Wachstum gegenüber dem Vorjahr. Daher wächst die Marktnachfrage in dieser Region da Sputtertargets als Beschichtungsanwendung in der Luft- und Raumfahrt eingesetzt werden.

APAC-Marktstatistik

Der Zielmarkt für Sputtern im asiatisch-pazifischen Raum soll im Prognosezeitraum eine bemerkenswerte Expansion erfahren. Der Hauptfaktor für das Wachstum des Marktes in dieser Region ist das wachsende öffentliche Interesse an Unterhaltungselektronik. Darüber hinaus wird im asiatisch-pazifischen Raum geschätzt dass der Markt in China dominiert da die Nachfrage nach Automobilen insbesondere Elektrofahrzeugen hoch ist.

Research Nester
Sputtering Target Market Size
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Top-Unternehmen die den Sputter-Zielmarkt dominieren

top-features-companies
    • JX Nippon Mining &; Metals Corporation
      • Unternehmen Übersicht
      • Geschäftsstrategie
      • Wichtige Produktangebote
      • Finanzielle Leistung
      • Wichtige Leistungsindikatoren
      • Risikoanalyse
      • Jüngste Entwicklung
      • Regionale Präsenz
      • SWOT-Analyse
    • Praxair Technology Inc.
    • Plansee SE
    • Lieferant:Mitsui Mining &; Smelting Co Ltd.
    • Lieferant:Hitachi Ltd.
    • Honeywell International Inc.
    • Lieferant:Sumitomo Chemical Co. Ltd.
    • ULVAC Inc.
    • Materion Corporation
    • Lieferant:GRIKIN Advanced Material Co. Ltd.

In den Nachrichten

  • Hannover 96 aus der deutschen Bundesliga und Mito HollyHock aus der Japan Professional Football League (J. League) haben Partnerschaftsverträge mit der TANIOBIS GmbH einem Konzernunternehmen der JX Nippon Mining &; Metals Corporation unterzeichnet.
  • Hitachi Ltd. in Indien gab eine Partnerschaft mit M/s NASH INDUSTRIES bekannt einem Pionier bei der Bereitstellung von Lösungen mit Unverwechselbarkeit in den Bereichen Design Präzisionsblechstanzen Fertigung und Baugruppen um Controller für bürstenlose Gleichstrommotoren mit integrierten Single-Chip-ICs bereitzustellen die bei Hitachi Power Semiconductor Device Ltd. Japan hergestellt werden.

Autorennachweise:  Abhishek Verma, Hetal Singh


  • Berichts-ID: 5018
  • Veröffentlichungsdatum: Jun 14, 2023
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Häufig gestellte Fragen (FAQ)

Die Hauptfaktoren die das Wachstum des Marktes vorantreiben sind die wachsende Nachfrage nach Unterhaltungselektronik die steigende Nachfrage nach Seltenerdmaterialien und der sprunghafte Einsatz von Sputtertargets in der Automobilproduktion.

Es wird erwartet dass die Marktgröße des Sputterziels im Prognosezeitraum d. h. 2023 bis 2035 eine CAGR von ~2 % erreichen wird.

Die Hauptakteure auf dem Markt sind JX Nippon Mining &; Metals Corporation Praxair Technology Inc. Plansee SE Mitsui Mining & Smelting Co Ltd. und andere.

Die Unternehmensprofile werden auf der Grundlage der mit dem Produktsegment erzielten Umsätze der geografischen Präsenz des Unternehmens die die umsatzgenerierende Kapazität bestimmt sowie der neuen Produkte die das Unternehmen auf den Markt bringt ausgewählt.

Der Markt ist nach Material Anwendung Sputterverfahren und Region segmentiert.

Es wird erwartet dass das Segment der reinen Metallziele bis Ende 2035 die größte Marktgröße erreichen und erhebliche Wachstumschancen aufweisen wird.

Es wird geschätzt dass der Anstieg der Verwendung von Alternativen der hohe Preis für das Sputtertarget und die Beschädigung eines Teils des Plasmas wachstumshemmende Faktoren für die Marktexpansion sind.

Es wird prognostiziert dass der Markt in der nordamerikanischen Region bis Ende 2035 den größten Marktanteil halten und in Zukunft mehr Geschäftsmöglichkeiten bieten wird.
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