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Marktgröße und Prognose für Sputtertargets nach Material (Reinmetall, Legierung, Verbindung, Oxid, Isotop), Anwendung (Luft- und Raumfahrt, Elektronik und Halbleiter, Glasbeschichtung, Solarzellenbeschichtung, Festoxidbrennstoffzellen), Sputterverfahren (Hochfrequenz-, Gleichstrom-, reaktives, Magnetron-, Gasfluss- und ionenunterstütztes Sputtern) – Wachstumstrends, Hauptakteure, regionale Analyse 2026–2035

  • Berichts-ID: 5018
  • Veröffentlichungsdatum: Nov 25, 2025
  • Berichtsformat: PDF, PPT
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Sputtering Target Market Outlook:

Der Markt für Sputtertargets hatte 2025 ein Volumen von über 6,42 Milliarden US-Dollar und wird voraussichtlich bis 2035 auf über 7,75 Milliarden US-Dollar anwachsen, was einem durchschnittlichen jährlichen Wachstum von über 1,9 % im Prognosezeitraum 2026–2035 entspricht. Für das Jahr 2026 wird das Marktvolumen für Sputtertargets auf 6,53 Milliarden US-Dollar geschätzt.

Sputtering Target Market Size
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Dieses Marktwachstum wird voraussichtlich durch die steigende Nachfrage nach erneuerbarer Energie beeinflusst. So wurde die Kapazität erneuerbarer Energien im Jahr 2022 weltweit auf etwa 7 % erhöht. Daher nimmt die Verwendung von Sputtertargets zu, da diese in großem Umfang bei der Herstellung von Dünnschichtsolarzellen eingesetzt werden. Darüber hinaus ist Sputtern ein Verfahren zur Beschichtung von Materialien, um deren Haltbarkeit zu erhöhen. Die Magnetron-Sputtertechnologie wird zur Härtung von Bohrern sowie für Korrosionsschutz- und Anti-Seize-Beschichtungen, Werkzeuge und andere Verfahren angewendet.

Darüber hinaus wird der Bauboom auch den Markt für Sputtertargets beeinflussen. Sputtertargets ermöglichen die Herstellung von strahlungsarmem Beschichtungsglas, auch bekannt als Low-E-Glas. Dieses Glas dient der Energieeinsparung, der Lichtregulierung und der ästhetischen Gestaltung von Gebäuden. Daher ist es in der Bauindustrie sehr beliebt, was die Nachfrage nach entsprechenden Targets weiter steigert. Auch in der Röntgenoptik sind Multilayer-Systeme unverzichtbar, da sie in vielen Bereichen wie Synchrotronstrahlung, Freie-Elektronen-Lasern (FELs), medizinischer Optik und Weltraum-Röntgenteleskopen eingesetzt werden. Daher wächst auch hier die Nachfrage nach Sputtertargets. Magnetron-Sputtern wird zudem in vielen Datenspeichergeräten verwendet. Die Herstellung von CDs, DVDs, Laserdiscs, Festplatten, Disketten und mikroelektrischen Flash-Speichern ist damit möglich. Darüber hinaus kann es zur Herstellung nanostrukturierter Materialien eingesetzt werden.

Schlüssel Sputtering Target Markteinblicke Zusammenfassung:

  • Regionale Highlights:

    • Bis 2035 wird Nordamerika voraussichtlich einen Marktanteil von 30 % am Sputtertargetmarkt erreichen, was durch die wachsende Flugzeugproduktion begünstigt wird.
    • Für die Region Asien-Pazifik wird bis 2035 ein bemerkenswertes Wachstum prognostiziert, das durch das steigende öffentliche Interesse an Unterhaltungselektronik angetrieben wird.

  • Segmenteinblicke:

    • Bis 2035 dürfte das Segment der reinen Metalltargets im Sputtertarget-Markt den höchsten Umsatz generieren, angetrieben durch den zunehmenden Einsatz von reinen Metalltargets in verschiedenen Sputter- und Verdampfungskonfigurationen.
    • Im Zeitraum 2026-2035 wird für das Segment der Magnetron-Sputterverfahren ein substanzielles Wachstum erwartet, das durch die Anwendung von Magnetron-Sputterverfahren für korrosionsbeständige und reibungsarme Beschichtungen vorangetrieben wird.

  • Wichtigste Wachstumstrends:

    • Wachstum der Nachfrage nach Unterhaltungselektronik
    • Steigende Nachfrage nach Seltenen Erden

  • Größte Herausforderungen:

    • Hoher Preis für Sputtertarget
    • Beschädigung einiger Plasma

  • Wichtige Akteure: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Praxair Technology, Inc., Plansee SE, Mitsui Mining & Smelting Co, Ltd., Hitachi, Ltd., Honeywell International Inc., Sumitomo Chemical Co., Ltd., ULVAC, Inc., Materion Corporation, GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.

Global Sputtering Target Markt Prognose und regionaler Ausblick:

  • Marktgröße und Wachstumsprognosen:

    • Marktgröße 2025: 6,42 Milliarden US-Dollar
    • Marktgröße 2026: 6,53 Milliarden US-Dollar
    • Prognostizierte Marktgröße: 7,75 Milliarden US-Dollar bis 2035
    • Wachstumsprognosen: 1,9 %

  • Wichtigste regionale Dynamiken:

    • Größte Region: Nordamerika (30 % Anteil bis 2035)
    • Region mit dem schnellsten Wachstum: Asien-Pazifik
    • Dominierende Länder: Vereinigte Staaten, China, Japan, Deutschland, Südkorea
    • Schwellenländer: Indien, Vietnam, Mexiko, Indonesien, Brasilien

    • Last updated on : 25 November, 2025

Wachstumstreiber

  • Steigende Nachfrage nach Unterhaltungselektronik: Verschiedene Unterhaltungselektronikprodukte wie Smartphones, Laptops und mehr verzeichnen eine steigende Nachfrage. So wird die Zahl der Smartphone-Nutzer weltweit im Jahr 2023 voraussichtlich bei rund 5 Milliarden liegen, was etwa 85 % der Weltbevölkerung entspricht. Daher wird auch ein Anstieg der Nachfrage nach Sputtertargets erwartet. Denn integrierte Schaltkreise und Dünnschichttransistoren, die in elektronischen Geräten wie Smartphones, Laptops und Fernsehern verwendet werden, werden in großen Mengen mithilfe von Sputtertargets hergestellt.
  • Steigende Nachfrage nach Seltenen Erden: In den wenigen Jahrzehnten ab 2023 wird die weltweite Nachfrage nach Seltenen Erden voraussichtlich um etwa 500 % oder mehr steigen. Seltene Erden weisen typischerweise einzigartige elektrische und optische Eigenschaften auf und werden daher häufig als Sputtertargets eingesetzt.
  • Zunehmender Einsatz von Sputtertargets in der Automobilproduktion : Verschiedene Automobilkomponenten wie Scheinwerfer und Rückleuchten, Antriebskomponenten und Zierteile werden mithilfe der Sputtertarget-Technologie hergestellt. Mit der steigenden Produktion dieser Komponenten wird daher auch ein Anstieg des Einsatzes dieser Technologie in der Automobilindustrie erwartet.

Herausforderungen

  • Hoher Preis für Sputtertargets: Der Preis des Endprodukts korreliert direkt mit den Kosten der technischen Entwicklung, dem komplexen Produktionsprozess und den in den Maschinen, Werkzeugen oder Systemen verwendeten Targets. Aufgrund dieser Kostensteigerungen wird mit einem Preisanstieg gerechnet. Diese Einschränkungen könnten daher das Wachstum des Marktes für Sputtertargets hemmen.
  • Beschädigung einiger Plasma
  • Anstieg bei der Nutzung von Alternativen

Marktgröße und Prognose für Sputtertargets:

Berichtsattribut Einzelheiten

Basisjahr

2025

Prognosejahr

2026–2035

CAGR

1,9 %

Marktgröße im Basisjahr (2025)

6,42 Milliarden US-Dollar

Prognostizierte Marktgröße (2035)

7,75 Milliarden US-Dollar

Regionaler Geltungsbereich

  • Nordamerika (USA und Kanada)
  • Asien-Pazifik (Japan, China, Indien, Indonesien, Malaysia, Australien, Südkorea, übriges Asien-Pazifik)
  • Europa (Großbritannien, Deutschland, Frankreich, Italien, Spanien, Russland, Nordische Länder, übriges Europa)
  • Lateinamerika (Mexiko, Argentinien, Brasilien, übriges Lateinamerika)
  • Naher Osten und Afrika (Israel, Golf-Kooperationsrat, Nordafrika, Südafrika, übriger Naher Osten und Afrika)
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Marktsegmentierung für Sputter-Zielsysteme:

Materialsegmentanalyse

Der Markt für Sputtertargets aus reinem Metall wird voraussichtlich bis Ende 2035 den höchsten Umsatz generieren. Dieses Wachstum wird maßgeblich durch den verstärkten Einsatz von Reinmetalltargets in verschiedenen Konfigurationen – darunter planare, kreisförmige und rechteckige – für Sputter- und Verdampfungsprozesse beeinflusst. Auch die steigende Produktion von hochbrechenden Schichten für Infrarotfilter, ferromagnetischen Dünnschichten, Halbleiterschichten, fotoleitenden Schichten und Schmierfilmen mithilfe dieser Targets trägt zum Umsatzwachstum dieses Segments bei.

Segmentanalyse mittels Sputterverfahren

Im Markt für Sputtertargets wird für das Segment der Magnetron-Sputterverfahren in Kürze ein signifikantes Wachstum erwartet. Dies ist auf den Einsatz von Magnetron-Sputterverfahren in verschiedenen industriellen Anwendungen zurückzuführen, darunter die Herstellung korrosionsbeständiger und reibungsarmer Beschichtungen.

Unsere detaillierte Analyse des globalen Marktes umfasst die folgenden Segmente:

Material

  • Reinmetallziele
  • Legierungsziele
  • Verbindungsziele
  • Oxidziele
  • Isotopenziele

Anwendung

  • Luft- und Raumfahrt & Verteidigung
  • Elektronik & Halbleiter
  • Glasbeschichtung
  • Solarzellenbeschichtung
  • Festoxid-Brennstoffzellen

Sputterverfahren

  • Hochfrequenz-Sputtern
  • Gleichstrom-Sputtern
  • Reaktives Sputtern
  • Magnetron-Sputtern
  • Gasfluss-Sputtern
  • Ionenunterstütztes Sputtern
Vishnu Nair
Vishnu Nair
Leiter - Globale Geschäftsentwicklung

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Sputtertarget-Markt – Regionale Analyse

Einblicke in den nordamerikanischen Markt

Prognosen zufolge wird die nordamerikanische Industrie bis 2035 einen Marktanteil von 30 % erreichen, was auf die steigende Flugzeugproduktion zurückzuführen ist. So wurde beispielsweise für 2021 in den USA die Anzahl der Flugzeuge der allgemeinen Luftfahrt auf rund 204.404 geschätzt, ein Wachstum gegenüber dem Vorjahr. Daher steigt die Marktnachfrage in dieser Region, da Sputtertargets in der Luft- und Raumfahrt als Beschichtungsverfahren eingesetzt werden.

Einblicke in den APAC-Markt

Der Markt für Sputtertargets im asiatisch-pazifischen Raum dürfte im Prognosezeitraum ein bemerkenswertes Wachstum verzeichnen. Haupttreiber dieses Wachstums ist das steigende öffentliche Interesse an Unterhaltungselektronik. Darüber hinaus wird China im asiatisch-pazifischen Raum voraussichtlich den Markt dominieren, da die Nachfrage nach Automobilen, insbesondere nach Elektrofahrzeugen, dort hoch ist.

Sputtering Target Market Share
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Stagnierende Zielgruppen:

    • JX Nippon Mining & Metals Corporation
      • Unternehmensübersicht
      • Geschäftsstrategie
      • Wichtigste Produktangebote
      • Finanzielle Leistung
      • Wichtigste Leistungsindikatoren
      • Risikoanalyse
      • Aktuelle Entwicklung
      • Regionale Präsenz
      • SWOT-Analyse
    • Praxair Technology, Inc.
    • Plansee SE
    • Mitsui Mining & Smelting Co, Ltd.
    • Hitachi, Ltd.
    • Honeywell International Inc.
    • Sumitomo Chemical Co., Ltd.
    • ULVAC, Inc.
    • Materion Corporation
    • GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.

Neueste Entwicklungen

  • Hannover 96 aus der deutschen Bundesliga und Mito HollyHock aus der japanischen Profifußballliga (J. League) haben Partnerschaftsverträge mit der TANIOBIS GmbH, einem Konzernunternehmen der JX Nippon Mining & Metals Corporation , unterzeichnet.
  • Hitachi, Ltd. in Indien gab eine Partnerschaft mit M/s NASH INDUSTRIES bekannt, einem Pionierunternehmen für Lösungen mit besonderem Fokus auf Design, Präzisionsblechstanzen, Fertigung und Montage, um Steuerungen für bürstenlose Gleichstrommotoren mit integrierten Single-Chip-ICs bereitzustellen, die bei Hitachi Power Semiconductor Device, Ltd. in Japan hergestellt werden.
  • Report ID: 5018
  • Published Date: Nov 25, 2025
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Häufig gestellte Fragen (FAQ)

Im Jahr 2026 wird der Markt für Sputtertargets auf 6,53 Milliarden US-Dollar geschätzt.

Der globale Markt für Sputtertargets hatte im Jahr 2025 ein Volumen von mehr als 6,42 Milliarden US-Dollar und wird voraussichtlich mit einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate (CAGR) von über 1,9 % wachsen und bis 2035 einen Umsatz von 7,75 Milliarden US-Dollar erreichen.

Bis 2035 wird Nordamerika voraussichtlich einen Marktanteil von 30 % am Sputtertargetmarkt erreichen, was durch die wachsende Flugzeugproduktion begünstigt wird.

Zu den wichtigsten Akteuren auf dem Markt gehören JX Nippon Mining & Metals Corporation, Praxair Technology, Inc., Plansee SE, Mitsui Mining & Smelting Co, Ltd., Hitachi, Ltd., Honeywell International Inc., Sumitomo Chemical Co., Ltd., ULVAC, Inc., Materion Corporation, GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.

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Preeti Wani
Preeti Wani
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